穩(wěn)態(tài)模擬和動態(tài)模擬的主要區(qū)別

德雷射科

穩(wěn)態(tài)模擬和動態(tài)模擬在化工等領域應用廣泛，二者主要區(qū)別如下： 模擬條件 穩(wěn)態(tài)模擬假設系統(tǒng)達到穩(wěn)定狀態(tài)，狀態(tài)參數(shù)如溫度、壓力、流量等不隨時間變化，微分方程中不含時間變量；動態(tài)模擬考慮系統(tǒng)在時間維度上的變化，參數(shù)隨時間改變，通常用含時間變量的偏微分方程描述。 解決問題 穩(wěn)態(tài)模擬主要解決設計問題，用于設計和優(yōu)化化工過程中的設備，確定設備在設計條件下的性能指標；動態(tài)模擬解決操作問題，可模擬開車、停車以及參數(shù)波動等不穩(wěn)定狀態(tài)，用于驗證控制策略、進行操作員培訓等。 可信度與誤差 穩(wěn)態(tài)模擬可信度較高，其結果通過代數(shù)方程求解，迭代過程可消除誤差；動態(tài)模擬解微分方程，上一時刻誤差會傳遞到下一時刻，初值賦予很重要，且實際操作影響因素多，只能對操作過程變化結果進行定性分析，無法完全再現(xiàn)實際生產(chǎn)情況。 算法難度 動態(tài)模擬算法比穩(wěn)態(tài)模擬復雜，需解大量偏微分方程組。

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