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標(biāo)題:
電容電壓特性測試儀 訂購指南
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作者:
晟諾儀器
時間:
昨天 13:19
標(biāo)題:
電容電壓特性測試儀 訂購指南
在集成電路特別是MOS電路的生產(chǎn)和開發(fā)研制中,MOS電容的C-V測試是極為重要的工藝過程監(jiān)控測試手段,通過C-V測試達(dá)到優(yōu)化生產(chǎn)過程中的工藝參數(shù),提高IC成品率。 MOS(金屬-氧化物-半導(dǎo)體)結(jié)構(gòu)的電容是外加偏置電壓的函數(shù),MOS電容隨外加電壓變化的曲線稱之為C-V曲線(簡稱C-V特性)。C-V曲線與半導(dǎo)體的導(dǎo)電類型及其摻雜濃度、SiO2-Si系統(tǒng)中的電荷密度有密切的關(guān)系。 利用實(shí)際測量到的MOS結(jié)構(gòu)的C-V曲線與理想的MOS結(jié)構(gòu)的C-V特性曲線比較,可求得氧化硅層厚度、襯底摻雜濃度、氧化層中可動電荷面密度、和固定電荷面密度等參數(shù)。 另外作為組成半導(dǎo)體器件的基本結(jié)構(gòu)的PN結(jié)具有電容效應(yīng)(勢壘電容)。加正向偏壓時,PN結(jié)勢壘區(qū)變窄,勢壘電容變大;加反向偏壓時,PN結(jié)勢壘區(qū)變寬,勢壘電容變小。
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