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標題:
等離子去膠機清潔規(guī)范
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作者:
ninali
時間:
2025-7-17 15:56
標題:
等離子去膠機清潔規(guī)范
等離子去膠機的腔室清潔是保障良率的核心防線，需建立三級清潔體系（日常/預防/深度），嚴控副產物聚合物沉積帶來的致命風險：
??一、日常清潔（每班次執(zhí)行）??
??核心目標??：抑制活性自由基聚合物
??腔壁擦拭??：停機后立即用無紡布蘸取電子級異丙醇（IPA），以同心圓路徑擦拭腔壁及電極表面，重點清除粘性氟碳化合物（防止后續(xù)高溫碳化）
??石英窗透光率保衛(wèi)戰(zhàn)??：
用氟化銨緩沖液（BHF：HF/NH?F=1:7）浸透超細海綿
單向輕拂石英視窗＞5次，透光率需維持92%以上
??氣體噴淋頭搶救??：200μm孔徑用0.1MPa氮氣反吹，同步超聲波振蕩器（40kHz）震落嵌壁微粒
??二、預防性清潔（每50片晶圓/8小時）??
??工藝原理??：氧等離子體燃燒碳化聚合物
??原位干法清洗（關鍵?。??：
充入純氧至2Torr，啟動2000W射頻功率
維持60分鐘，監(jiān)測CO?濃度峰值（＞5000ppm表明反應完全）
??電極活化再生??：通入10%NF?/氬混合氣，低溫模式（150℃）蝕刻鋁電極表面氧化層2μm
??真空管路排毒??：尾氣閥切至燃燒塔，950℃高溫分解劇毒COF?生成物
??三、深度清潔（每500片/周）??
等離子去膠機
拆解操作（必須降溫至25℃！）??
??電極板復活手術??：
拆下鋁制電極浸泡于磷酸/醋酸混合液（3:1）
陽極氧化處理重建10μm陶瓷防護層
??腔體噴砂重生??：50μm氧化鋁顆粒沖擊內壁，粗糙度Ra控制0.8±0.1μm（過光滑導致等離子體湍流）
??隱藏殺手清除??：用內窺鏡檢查腔體鉸鏈死角，超聲探針震落＞10μm的燒結物
??四、清潔效果驗證（量化標準）??
??痕量檢測??：晶圓級殘留金屬離子（Na?/K?）＜1E10atoms/cm2
??等離子體均一性測試??：空白硅片去膠速率波動≤±2%(9點測試)
??粒子監(jiān)控??：清潔后首片晶圓增量為＜5顆（≥0.2μm）
??五、周期調整的黃金法則??
???縮短清潔間隔的紅色警報??：
工藝氣體含碳量上升（CF?占比＞20%）
OES檢測到388nm氰基（CN*）特征峰
腔體視窗透光率周衰減＞3%
???可延長周期綠色信號??：
啟用He/O?混合氣替代純氧（聚合物生成率降低40%）
電極表面鍍類金剛石涂層（DLC）
作者:
化學儀器坊
時間:
2025-11-27 23:47
這個問題挺有意思的，加入討論。
作者:
zhouyiq
時間:
2025-12-3 22:09
你分享的經驗對我很有幫助，謝謝！
作者:
9549872678@8
時間:
3 天前
很有價值的討論，繼續(xù)保持。
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