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標題: 等離子去膠機常見故障診斷與解決 [打印本頁]

作者: ninali    時間: 2025-7-17 15:55
標題: 等離子去膠機常見故障診斷與解決
故障一:等離子體異常熄滅(生產(chǎn)急停)??  
???高頻誘因??:  
①RF匹配器失效(反射功率>10%)  
②真空泄漏(腔壓5秒內(nèi)飆升>50mTorr)  
③工藝氣體流量驟降(MFC堵塞或電磁閥故障)  
??應急方案??:  
檢查真空泵油位及密封圈(尤其腔門O形圈)  
手動觸發(fā)RF源自檢程序,監(jiān)聽13.56MHz震蕩器異響  
拆解氣體管路,超聲波清洗MFC內(nèi)部微粒  
??故障二:等離子去膠機去膠均勻性劣化(邊緣殘留/中心過刻)??  
???核心病灶??:  
①靜電卡盤(ESC)氦氣泄漏(溫度波動>±5℃)  
②電極板表面聚合物堆積(厚度>100μm)  
③腔室石英窗污染(透光率下降至<70%)  
??修復策略??:  
ESC泄漏測試:注入2psi氦氣,壓降率>5%/min需更換密封圈  
啟動自動腔室清洗(O?等離子體120分鐘,功率密度>3W/cm2)  
用HF/H?O混合液(1:100)擦拭石英窗恢復透光  
??故障三:工藝終點失控(過刻蝕損傷基底)??  
???致命信號??:  
①光學發(fā)射譜(OES)483nm(CO*特征峰)監(jiān)測失效  
②殘余氣體分析儀(RGA)基線漂移>10%  
??根治方案??:  
校準OES光路:用標準汞燈驗證波長精度±0.1nm  
RGA執(zhí)行電子倍增器除氣(250℃/4小時)  
增加二次終點校驗:紅外測溫監(jiān)控晶圓溫升拐點  
??故障四:顆粒污染暴增(>50顆/wafer)??  
???關鍵污染源??:  
①腔壁剝落物(尤其鋁電極表面陽極氧化層龜裂)  
②傳輸機械手摩擦碎屑(陶瓷涂層破損)  
③聚合物“雪花”效應(氣壓突變導致副產(chǎn)物脫落)  
??深度清潔流程??:  
腔體拋丸處理:0.3mm氧化鋁顆粒沖擊重建表面  
機械手關節(jié)涂覆二硫化鉬潤滑層  
工藝后緩釋降壓(速率<10Torr/秒)  
??故障五:真空系統(tǒng)癱瘓(抽速降低30%)??  
???典型癥候??:  
①分子泵軸承過熱(>100℃)  
②機械泵油乳化(水分含量>500ppm)  
③粗抽閥卡滯(開合延遲>3秒)  
??重生維護??:  
分子泵拆解:更換氮化硅陶瓷軸承(壽命>50000小時)  
加裝油霧分離器+冷凍式空氣干燥機  
電磁閥線圈阻抗測試(標準值35±2Ω)  
??故障六:尾氣處理異常(有毒氣體泄漏)??  
???危險警報??:  
①裂解爐溫度驟降(<700℃導致CF?未分解)  
②堿性吸附劑飽和(pH值從13跌至8以下)  
??安全保障改造??:  
紅外熱像儀掃描裂解爐保溫層,修補650℃高溫區(qū)隔熱棉  
吸附塔壓差監(jiān)測>50kPa時強制再生循環(huán)  
增配激光氣體分析儀(TDLAS)實時檢測HF泄漏  



作者: 余額不足    時間: 2025-11-3 13:52
這個應用場景很廣泛。
作者: 333    時間: 2025-11-26 21:52
謝謝樓主毫無保留的分享,讓我們在工作中多了新方向~
作者: baerqi    時間: 3 天前
這個角度很有創(chuàng)意,讓人眼前一亮。




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