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標(biāo)題: 等離子清洗的缺點(diǎn)是什么呢？ [打印本頁(yè)]

作者: jixiego1 時(shí)間: 2024-7-29 18:55
標(biāo)題: 等離子清洗的缺點(diǎn)是什么呢？
等離子清洗的優(yōu)點(diǎn)有很多，那么，等離子清洗的缺點(diǎn)是什么呢？

作者: baba 時(shí)間: 2024-8-30 17:36
等離子清洗的缺點(diǎn)主要包括以下幾個(gè)方面：

操作條件復(fù)雜：等離子清洗的效果受操作條件影響顯著，條件的變化可能導(dǎo)致清洗效果大相徑庭，因此需要精確控制工藝參數(shù)。
工藝復(fù)雜，易損傷材料：在半導(dǎo)體等精密器件的清洗過(guò)程中，如果控制不當(dāng)，可能會(huì)損傷焊盤表面甚至晶片。
易生成二次污染：特別是氧氣等離子清洗，清洗后的器件容易生成新的氧化物，成為二次污染源。
穿透能力有限：等離子清洗每秒只能穿透幾個(gè)納米的厚度，因此污染層不能太厚，否則清洗效果不佳。
時(shí)效性：等離子清洗的效果具有時(shí)效性，處理后的產(chǎn)品需盡快進(jìn)行下一步工序，以避免效果減弱。
設(shè)備成本高：等離子清洗設(shè)備多為定制型，價(jià)格較高，且需要一定的技術(shù)支持和維護(hù)成本。
清洗難度和范圍限制：雖然清洗效果細(xì)致，但主要適用于細(xì)微污漬的清洗，對(duì)于大塊油污等類型的污漬效果有限。

作者: 菜香段子王 時(shí)間: 2024-9-3 16:50
我也用過(guò)類似的設(shè)備，感覺(jué)確實(shí)如此。

作者: 一杯敬過(guò)往 時(shí)間: 2024-9-3 17:21
樓上，太棒了，長(zhǎng)知識(shí)了，謝謝！

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